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  1. 修士論文
  2. 2013

Alドープダイヤモンドの物性評価

https://uec.repo.nii.ac.jp/records/4879
https://uec.repo.nii.ac.jp/records/4879
d64032b8-fd4c-4dcb-a98f-8e000774ce86
名前 / ファイル ライセンス アクション
1233068.pdf 1233068.pdf (3.2 MB)
Item type 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2014-03-31
タイトル
タイトル Alドープダイヤモンドの物性評価
言語 ja
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec
資源タイプ thesis
著者 袴田, 大貴

× 袴田, 大貴

ja 袴田, 大貴

ja-Kana ハカマタ, マサキ

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 ホウ素ドープダイヤモンド(BDD)では、絶縁体であるダイヤモンドに不純物を高濃度にドープさせることで超伝導が発現する。BDDの超伝導は、高濃度ホウ素ドープにより母物質であるダイヤモンドの価電子帯の上端がフェルミ面を超えて金属的になることが重要であると考えられる。[1] ホウ素以外の不純物に対して超伝導は確認されていないが、ホウ素と同じⅢ族元素であるアルミニウムを不純物としたダイヤモンドが高濃度(NAl=1.56at%)で金属的になり、超伝導が発現する可能性が理論的に示唆され,注目されている[2]。  我々は、ホウ素以外の不純物ドープダイヤモンドの超伝導発現の可能性を探る目的で、金属絶縁体転移が予想されているアルミニウムを不純物としたダイヤモンド(ADD)の作製を行っており、光電子分光および蛍光X線分析からフェルミ面近傍の電子状態の観測を行い、フェルミ準位近傍にAl 3pの電子状態が観測され、金属的である可能性を示唆した(Fig.1)。Fig.1の数値は、EF以上またはEF以下の状態を示す。 また、ADDの電気抵抗の温度依存性について観測した(Fig.2)。温度変化の様子は半導体的であるが、その活性化エネルギーは非常に小さく、フェルミ面近傍のAl-3pの観測と矛盾しない結果が得られた。
学位授与機関
学位授与機関名 電気通信大学
学位授与年度
内容記述タイプ Other
内容記述 2013
学位授与年月日
学位授与年月日 2014-03-31
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Ver.1 2023-05-15 10:42:35.827408
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