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  1. 博士論文
  2. 2014

Fabrication of Oxide Semiconductors and Fromation of the Heterostructure by UV Oxidation of Metallic Thin Films

https://uec.repo.nii.ac.jp/records/855
https://uec.repo.nii.ac.jp/records/855
91c010d3-fb97-4a13-8b21-14208a5d61f1
名前 / ファイル ライセンス アクション
9000000755.pdf 9000000755.pdf (8.2 MB)
アイテムタイプ 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2014-09-30
タイトル
タイトル Fabrication of Oxide Semiconductors and Fromation of the Heterostructure by UV Oxidation of Metallic Thin Films
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
資源タイプ doctoral thesis
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
その他(別言語等)のタイトル
その他のタイトル 金属薄膜の紫外線酸化による酸化物半導体の作製およびヘテロ接合の形成
言語 ja
著者 張, 東元

× 張, 東元

ja 張, 東元

ja-Kana ザン, ドンウェン

en Zhang, Dongyuan

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学位名
学位名 博士(工学)
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 12612
学位授与機関名 電気通信大学
学位授与年度
内容記述タイプ Other
内容記述 2014
学位授与年月日
学位授与年月日 2014-09-30
学位授与番号
学位授与番号 甲第773号
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-05-15 11:38:12.831506
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