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アイテム / Xe多価イオンによるH終端Si表面とH2O吸着Si表面のH+スパッタリング / 202106301_Thesis
202106301_Thesis
ファイル | ライセンス |
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202106301_Thesis.pdf (7.6 MB) sha256 eb361fed438d937ac49857675cf4e3d3c03da6043f458945af90249d5db5c6f0 |
公開日 | 2021-09-13 | |||||
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ファイル名 | 202106301_Thesis.pdf | |||||
本文URL | https://uec.repo.nii.ac.jp/record/10046/files/202106301_Thesis.pdf | |||||
ラベル | 202106301_Thesis.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 7.6 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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